ty -jour a2 -Abdel -Mottaleb，Mohamed Sabry au -Krylova，Valentina au -Andrulevičius，Mindaugas PY -2009 da -2009/2009/11/22 TI-光学，XPS和XRD研究，XPS，XPS和XRD研究，用于在多酰胺膜SP -Polyamide sp--多酰胺层的硫化铜层上的研究304308 VL -2009 AB-使用吸附扩散法在聚酰胺PA 6表面上形成硫化铜层。将聚合物样品浸入0.15 mol中4和5 h Å DM - 3 k 2 s 5 o 6 溶液并用HCl酸化（0.1 mol Å DM - 3 ） 在 20 ∘ C 。洗涤和干燥后，将样品用Cu（i）盐溶液处理。对样品进行了研究，byuv/vis，X射线衍射（XRD）和X射线光电子光谱（XPS）方法。所有方法证实，在聚酰胺膜的表面上形成了一层硫化铜。硫化铜层是间接的带隙半导体。值 e BG 分别为1.25和1.3 eV，分别为4 h和5 h硫磺Pa 6。铜XPS光谱分析显示，仅在较深的膜的较深层中键（i）键，而在硫XPS S 2P光谱中，在清洁表面和用硫化物S 2P光谱中发现了主导的硫化物键。 ar + 离子。它是通过XRD方法建立的 铜 2 s ，该层包含 铜 1 。 9375 s 同样。对于PA 6最初硫磺4小时，晶粒尺寸 chalcicite，，，， 铜 2 s ， 曾是 〜 35.60  nm and for Djurleite，，，， 铜 1 。 9375 s ，是54.17 nm。获得的层的板电阻从6300到102不等  ω / 厘米 2 。SN -1110-662X UR -https：//doi.org/10.1155/2009/304308 do -10.1155/2009/304308 JF-国际光学杂志PB -Hindawi Publishing Corporation kw -er -er -er -er-